Фоторефрактивният ефект е в основата на холографските оптични приложения, но също така носи проблеми на други оптични приложения, така че подобряването на фоторефрактивната устойчивост на кристала от литиев ниобат е обърнато голямо внимание, сред които регулирането на допинга е най-важният метод.За разлика от фоторефрактивния допинг, анти-фоторефрактивният допинг използва елементи с непроменлив валент за намаляване на фоторефрактивния център.През 1980 г. беше съобщено, че фоторефракционното съпротивление на LN кристала с високо съотношение Mg се увеличава с повече от 2 порядъка, което привлече голямо внимание.През 1990 г. изследователите откриват, че LN, легиран с цинк, има висока фоторефракционна устойчивост, подобна на LN, легирана с магнезий.Няколко години по-късно бе установено, че LN, легиран със скандий и легиран с индий, също има фоторефрактивна резистентност.

През 2000 г. Xu et al.откри, че високосъотношение Mg-легиранLNкристал с високо фоторефрактивно съпротивление във видима ивица hasотлично фоторефрактивно представяне в UV лента.Това откритие проби разбирането нанафоторефракционна устойчивост наLNкристал, а също така запълва заготовката от фоторефрактивни материали, приложени в ултравиолетова лента.По-късата дължина на вълната означава, че размерът на холографската решетка може да бъде по-малък и по-фин и може да бъде динамично изтриван и записван в решетката чрез ултравиолетова светлина и разчитан чрез червена и зелена светлина, така че да се реализира прилагането на динамична холографска оптика .Lamarque et al.прие високотосъотношение Мg-легиранLN кристал, предоставен от университета Нанкай като UV фоторефракционенматериали реализирано програмируемо двуизмерно лазерно маркиране чрез използване на двувълново свързано усилване на светлината.

В ранния стадий анти-фоторефрактивните допинг елементи включват двувалентни и тривалентни елементи като магнезий, цинк, индий и скандий.През 2009 г. Kong et al.разработи анти-фоторефрактивен допинг с помощта на tetraвалентни елементи като хафний, цирконий и калай.При постигане на еднакво фоторефрактивно съпротивление, в сравнение с двувалентни и тривалентни легирани елементи, количеството на легиране на тетравалентните елементи е по-малко, например 4,0 mol% хафний и 6,0 mol% магнезий легираниLNкристалите имат similarфоторефрактивно съпротивление,2.0 mol% цирконий и 6.5 mol% легиран с магнезийLNкристалите имат similarфоторефрактивно съпротивление.Освен това коефициентът на сегрегация на хафний, цирконий и калай в литиевия ниобат е по-близо до 1, което е по-благоприятно за получаването на висококачествени кристали.

Висококачествен LN, разработен от WISOPTIC [www.wisoptic.com]